在过去的几十年里，我国信息产业存在严重的短板，非常依赖进口技术，如芯片，国内企业虽然能设计出高端芯片，但却由于EUV光刻机的却是而造不出来，且设计芯片所使用的EDA工具等软件，也常常受制于人，美国一旦修改规则，国产芯片的发展就有可能被摁下“暂停键”，华为麒麟芯片成为“绝唱”就是一个活生生的例子。

近几年来，美国为了限制我国科技产业的发展，不断修改芯片规则，禁止使用美国技术达到一定比例的半导体企业在没有得到许可的情况下向华为等中企供应芯片，且随着中美芯战日益激烈，美国已从对部分中企的打压演变成对我国半导体产业的全面封锁。

去年，拜登签署价值520亿美元的《芯片法案》，名义上是为了提升本土半导体产业整体水平的提升，但真实目的就是限制台积电、三星等芯片企业在大陆投资发展。另外，美日荷在今年三月初成功媾和，正式签订《三方协议》，限制高端半导体技术的对华出口。《三方协议》签订后，日本率先打响“抗中”的第一枪，加强23种半导体技术的对华出口。

美国及其盟友对中国的芯片封锁，是一把双刃剑，虽然短时间内会让中国企业出现“芯片荒”，但从长远的发展来看，中国企业在认清“核心技术是买不来、讨不来、求不来”的事实后，必定会放弃“买办思维”，走上自研的康庄大道，彻底解决“卡脖子”问题。

然而，让美日荷始料未及的是，它们刚刚想对中国半导体产业出手，中国就传来了好消息，有效的压制了《三方协议》的破坏力。

据媒体报道，“国家队”龙芯中科成功研制出国内首台中高端光刻机，已经进入内测阶段，且各项测数数据都非常理想。国产中高端光刻机进入内测，意味着中芯国际等国内芯片制造企业不久后就可以用上自己的光刻机。

芯片是发展现代科技必不可要的元器件，决定一个国家科技产业发展的上限，更是衡量一个国家综合实力的标准。以美国为首的西方国家企图以光刻机限制我国科技崛起的美梦，随着中国光刻机的量产，必定会支离破碎！

ASML公司高管曾当着中国科学家的面嘲讽道，“即便是把图纸给你们，中国也造不出光刻机”，可中国科学家非常擅长用实际行动“打脸”，不但研制出了DUV光刻机，而且还掌握了大量EUV光刻机核心技术，这种研发速度，让ASML深感震惊、恐惧，公司总裁温宁克在前不久彻底撕下伪装，声称中国自研光刻机是破坏全球芯片产业生态的行为！

你不卖给我光刻机，我自研光刻机就是破坏全球芯片产业生态，这种强盗逻辑也就西方企业能够想得出来。无论你怎么狡辩，中国绝不会让光刻机成为中国科技崛起道路上的“拦路虎”，更不可能因为你的一句话而放弃国产光刻机的研发。

当然了，光刻机的制造难度非常大，需要的精密元器件高达数万个，在重工业领域，我们与西方存在一定的差距，所以，国产EUV光刻机的问世还需要一些时间，但我们等得起，只要我们研制出了自己的EUV光刻机，美国及其盟友小弟对我们的芯片封锁就会不攻自破，甚至还要为此付出惨重的代价！

当下的世界正在面临着百年未有之大变局，希望国内企业能够在这个充满危机的环境中抓住“机遇”，在技术上不断变革、创新，携手打造出一个完善、先进的产业链，彻底实现民族科技的自主独立。请为中国科学家和具有一颗“红心”的中国企业点赞。